武汉国家光电实验室项目施工顺利

日期: 2004-05-08

    武汉国家光电实验室项目位于武汉市东湖新技术开发区内,喻家山路以南、关山二路以东,用地面积约5万平方米,预计于2004年底建成,2006年通过国家科技部组织的国家实验室专项验收。该项目是国家科技部首批定点的五个国家实验室之一,将建成在光电基础理论及其应用研究领域处于国内领先地位、国际先进水平的国家级研究和应用推广平台。
    世源科技工程公司在2003年9月通过建筑方案竞赛一举中标后,为满足该项目在净化、恒温、恒湿、防微振、电磁屏蔽等多种特殊环境要求,公司领导非常重视,组织了强有力的设计团队。在黄星元设计大师的指导下,设计组人员精心设计,科学组织,按时、按要求完成了主体建筑的全部设计工作,并在降低工程造价、缩短施工周期等多方面积极为业主出谋划策,得到了业主的高度赞誉。
    目前,该项目施工十分顺利,预计5月中旬即可结构封顶。公司有关人员一方面配合业主、代建单位、监理单位和施工单位进行施工现场服务,另一方面正积极开展项目配套工程的设计工作,力争使项目的整体效果达到最佳,将本工程建成具有国家级水平的优质工程。

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