近日，由中国电子工程设计院股份有限公司牵头，联合清华大学、以色列安特蓝德科技有限公司承担的国家重点研发计划“政府间国际科技创新合作”重点专项“先进制程芯片用超纯水制备TOC降解关键技术”项目启动会暨实施方案论证会在京顺利召开。世源科技工程有限公司、北京科技大学、北京工业大学等有关专家对项目实施方案进行评审。

        超纯水中总有机碳TOC含量是影响先进制程芯片产品良率的重要因素，痕量TOC去除技术及装备一直被美国和日本垄断。本项目针对先进制程芯片用超纯水制备工艺核心技术，通过中、以双方的深度合作，探究不同结构小分子有机物降解的主要机制，研发新型特异性波段UV系统关键组件，以期开发出具有国际先进水平的新工艺和新装备。项目为突破在芯片制造超纯水处理“卡脖子”技术的瓶颈提供技术支撑，在实现技术自主化和设备国产化方面具有重要意义。

        中国电子院和世源科技公司科技管理部门等相关人员参会。（科技管理中心供稿）